Ge wafer for microelectronic application
N
type, Sb doped Ge wafer
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N
type,undoped Ge wafer
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P
type,Ga doped Ge wafer
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Available
size:2”-4”
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Available
orientation: (100),(111),or custom specs.
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Available
grade: IR grade, electronic grade and cell grade
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Resistivity:
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N
- type : 0.007-30 ohm-cm
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P - type : 0.001-30 ohm-cm | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Undoped : >=30 ohm-cm | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Surface:
as-cut, single side polished, double side polished
Ge wafer for optical grade:
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Relative
products:
ge wafer
ge wafer cleaning
si ge wafer
ge wafer breaker
ge on siliconwafer
ge wafer
ge wafer cleaning
si ge wafer
ge wafer breaker
ge on siliconwafer
Source:
PAM-XIAMEN
If you
need more information about Ge wafer, please visit our website:www.qualitymaterial.net , send us email at powerwaymaterial@gmail.com.
We are using 40x40 mil size and 45x45 mil size chips for 1W . And 45x22 or 38x22mil size for 0,5w . Eff. is min. 120lm/w , package form is 3535 ceramic no lens flat type, and 5050 smd flat type.Cct 6500k, cri min 70-75, drive current 350 mA ( it can be change if you have suggest for it ), can you give us suggestion?
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